第四百八十八章 看吧，是你勾引我（2 / 3）

住说道：“教授，我看院报，詹姆士团队已经完成了第三轮实验，他们已经通过原子层沉积（ALD）设计，预计成品实现界面缺陷密度降低90%，量子比特的弛豫时间提升至500微秒，退相位时间突破200微秒。”

    “哦，挺厉害。”许青舟微微点头。

    “就没了？”马尔斯挠头，看起来教授一点都不慌啊。

    许青舟想了想，点头，沉声说道：“能和这样的团队做对手，这完全证明我们也很厉害。”

    “.”

    孙思敏和马尔斯相视一眼，这样一想，貌似他们这个团队真的挺厉害。

    “这份公告，是给项目管理办公室，投资方看的，当然，同样是给我们看的。”

    卡森转着办公椅，给自己倒了杯水，又回到位置上，很有经验地继续说道：“搞科研就像吃巧克力一样，你永远不知道下一块是什么味道。”

    不少课题组都埋头在这个前沿领域，看到这个消息自然会有压力，有的奋起直追，但其中也不乏直接放弃，甚至把自己实验数据打包送给领先课题组的，换取一个挂名的机会。

    这就叫及时制止。

    免得辛辛苦苦一年，发现自己的课题早就被其他人做出来了。

    “欧克，为了表示对强大对手的尊重，你们俩应该看书了。”许青舟敲敲桌子说。

    孙思敏和马尔斯点点头，低头继续看笔记。

    这头，许青舟也把目光放到电脑屏幕上，看A08号样品的数据。

    这一个月时间，他们基本都在做先导试验，验证石墨烯基底能否承受ALD沉积温度，测试金属的ALD生长可行性。

    非常基础的工作，就好比建大厦前，选择和测试不同的砖块，钢筋和水泥。

    A07号样品的问题，电化学剥离（FeCl）时薄膜撕裂或褶皱，导致后续ALD沉积基底不平整。

    经过试验，他们最终采用双层PMMA保护，先旋涂300 nm PMMA，再覆盖50 nm PDMS增强机械强度。

    最后，再用低电压剥离，电压≤1 V，电解液温度控制在25±2°C，以此来减少应力损伤。

    “嗯，撕裂问题搞定了。”

    许青舟目光扫过一排排数据，满意点头，可10分钟过去，他视线停下。

    【EDS显示Nb:Sn = 3.5:1± 0.2。】

    “Nb:Sn原子比偏离±17%。”

    许青舟向后靠在椅子上，揉了揉太阳穴。

    “是的，临界温度从理论18 K降至15 K，4.2 K/12 T下临界电流密度仅5×10 A/cm。”

    卡森无奈地说道：“除了这点，等离子体还原效率不足，H等离子体功率80 W时，Sn占比仅80%，残留SnO导致超导相纯度降至70%。”

    “交给我吧。”

    许青舟微微点头，看了眼时间，已经下午四点，随即说道：“这段时间大家辛苦，当然，比起这句话，两天的假期估计会让你们开心。”

    “老板，晚上一起去喝一杯？”卡森起身邀请。他的理念，该放纵就放纵。

    “你们玩儿